หุ้น Intel พุ่งทะลุ 100 ดอลลาร์ช่วงก่อนเปิดตลาด หลัง High-NA EUV เข้าสู่การผลิตจำนวนมาก ขณะที่ทรัมป์โพสต์กราฟหุ้น INTC อีกครั้ง

TradingKey - ณ เวลาที่รายงานข่าว วันที่ 8 กันยายน ตามเวลาสหรัฐฯ หุ้นอินเทล (INTC) ปรับตัวขึ้น 4.72% ในการซื้อขายก่อนเปิดตลาด สู่ระดับ 100.32 ดอลลาร์ โดยในวันทำการก่อนหน้า ราคาหุ้นปิดที่ 95.80 ดอลลาร์ เพิ่มขึ้น 4.51%

[ที่มา: TradingView]

ปริมาณการขาย CPU เซิร์ฟเวอร์ในไตรมาสที่ 2 ของอินเทล เติบโตขึ้น 9% เมื่อเทียบรายปี ขณะที่ราคาขายเฉลี่ยพุ่งขึ้น 48% เมื่อเทียบรายปี บริษัทระบุว่าความต้องการ CPU เซิร์ฟเวอร์ในปัจจุบันเกินกว่ากำลังการผลิตที่มีอยู่ และคาดว่าอุตสาหกรรม CPU เซิร์ฟเวอร์จะมีการเติบโตในแง่จำนวนยูนิตเป็นตัวเลขสองหลักอย่างแข็งแกร่งในปี 2026 และ 2027 โดยมีโมเมนตัมต่อเนื่องไปจนถึงปี 2028

High-NA EUV เข้าสู่การใช้งานในการผลิตเชิงอุตสาหกรรม

เมื่อวันที่ 8 กันยายน อินเทล และเอเอสเอ็มแอล (ASML) ประกาศความคืบหน้าล่าสุดเกี่ยวกับการผลิตเชิงปริมาณด้วยเทคโนโลยี High-NA EUV โดยทั้งสองบริษัทระบุว่า ปัจจุบันมีการใช้เทคโนโลยี High-NA EUV ในการผลิตเชิงปริมาณของอินเทลแล้ว

[ที่มา: อินเทล]

อินเทลเป็นหนึ่งในผู้ผลิตชิปกลุ่มแรก ๆ ที่นำเทคโนโลยี High-NA EUV มาใช้ โดยในปี 2567 อินเทลและเอเอสเอ็มแอลได้ดำเนินการรวมระบบการพิมพ์ลวดลายวงจรด้วยเทคโนโลยี High-NA EUV เชิงพาณิชย์เครื่องแรกของอุตสาหกรรม ณ ศูนย์วิจัยและพัฒนาในรัฐออริกอนได้สำเร็จ นับแต่นั้นเป็นต้นมา อินเทลได้พัฒนาการประเมินคุณสมบัติของอุปกรณ์ การทดสอบ และการวิจัยและพัฒนากระบวนการอย่างต่อเนื่อง พร้อมทั้งนำ High-NA EUV เข้ามาใช้ในการผลิตผลิตภัณฑ์จริง

อินเทลระบุว่า จนถึงปัจจุบัน เทคโนโลยี High-NA EUV ได้ผ่านการประมวลผลแผ่นเวเฟอร์ไปแล้วรวมมากกว่า 1 ล้านแผ่น ซึ่งรวมถึงการประเมินคุณสมบัติและการทดสอบอุปกรณ์ในระยะแรก การวิจัยและพัฒนา ตลอดจนการผลิตเชิงปริมาณสำหรับชั้นวงจรเฉพาะในโปรเซสเซอร์ Core Ultra Series 3 (รหัสพัฒนา Panther Lake) บางรุ่น

ปัจจุบัน เทคโนโลยี High-NA EUV ถูกนำมาใช้ในการผลิตเชิงปริมาณสำหรับชั้นวงจรเฉพาะในโหนดการผลิต Intel 18A สำหรับโปรเซสเซอร์ Panther Lake บางรุ่น โดยอินเทลระบุว่า ชั้นวงจร 18A ที่ผลิตขึ้นโดยใช้ High-NA EUV มีประสิทธิภาพทัดเทียมหรือสูงกว่าชั้นวงจรที่เทียบเคียงกันซึ่งผลิตโดยใช้แพลตฟอร์ม 0.33 NA NXE EUV นอกจากนี้ อินเทลยังระบุด้วยว่า ความแม่นยำในการวางซ้อนชั้นวงจร อัตราการผลิต และความพร้อมใช้งานของอุปกรณ์ High-NA ในปัจจุบันเป็นไปตามความคาดหวังของบริษัท

เทคโนโลยี High-NA EUV เพิ่มค่าช่องรับแสง (numerical aperture) จาก 0.33 บนแพลตฟอร์ม EUV เดิม เป็น 0.55 ซึ่งช่วยให้มีความละเอียดในการพิมพ์ลวดลายวงจรสูงขึ้น ทั้งนี้ เอเอสเอ็มแอลระบุว่า แพลตฟอร์ม EXE High-NA สามารถลดขั้นตอนบางประการในกระบวนการผลิตชิปขั้นสูงในปริมาณมาก ส่งผลให้ช่วยลดข้อบกพร่อง ต้นทุน และระยะเวลาในรอบการผลิตลงได้

คริสตอฟ ฟูเกต์ (Christophe Fouquet) ประธานเจ้าหน้าที่บริหารของเอเอสเอ็มแอล กล่าวว่า อินเทลเป็นหนึ่งในบริษัทหลักที่ผลักดันให้อุตสาหกรรมนำเทคโนโลยี High-NA มาใช้ นับตั้งแต่การติดตั้งระบบ EXE เชิงพาณิชย์เครื่องแรกในปี 2567 ไปจนถึงการเสร็จสิ้นการประเมินคุณสมบัติสำหรับอุปกรณ์รุ่นล่าสุด และการส่งมอบผลิตภัณฑ์ลอจิกชิปที่ผลิตในปริมาณมากรุ่นแรกด้วย High-NA อินเทลได้ก้าวขึ้นเป็นผู้นำในการนำ High-NA EUV มาประยุกต์ใช้กับการผลิตลอจิกชิปเชิงปริมาณ

ทรัมป์โพสต์ภาพ AI ที่เกี่ยวข้องกับอินเทลอีกภาพ

ประธานาธิบดีทรัมป์แห่งสหรัฐฯ ได้โพสต์ภาพที่สร้างจาก AI บนแพลตฟอร์ม Truth Social เมื่อวันที่ 6 กันยายน โดยในภาพแสดงหน้าจอการซื้อขายที่ระบุว่า "BOUGHT: INTEL $20" และ "NOW $95."

นอกจากนี้ ทรัมป์ยังกล่าวอ้างว่าเขาสามารถทำเงินได้ "หลายแสนล้านดอลลาร์" ให้แก่สหรัฐฯ ผ่านการถือครองหุ้นและสินทรัพย์ประเภทอื่น ๆ โดยไม่ได้เป็นไปเพื่อประโยชน์ส่วนตน แต่เขาไม่ได้แสดงหลักฐานที่เฉพาะเจาะจงมาสนับสนุนตัวเลขดังกล่าว

[ที่มา: Truth Social]

ปัจจุบัน ความต้องการซีพียูสำหรับเซิร์ฟเวอร์ของอินเทลยังคงสูงกว่าอุปทานที่มีอยู่ ขณะเดียวกัน เทคโนโลยี High-NA EUV ได้ถูกนำมาใช้ในการผลิตเชิงปริมาณสำหรับเลเยอร์กระบวนการผลิต Intel 18A บางส่วนในโปรเซสเซอร์ Core Ultra Series 3 บางรุ่น (รหัสพัฒนา Panther Lake) แล้ว

ในระยะข้างหน้า ประเด็นที่ว่าอุปทานซีพียูสำหรับเซิร์ฟเวอร์จะปรับตัวดีขึ้นหรือไม่ รวมถึงการนำโหนด 18A และ High-NA EUV มาขยายการใช้งานเพิ่มเติมได้หรือไม่นั้น จะเป็นประเด็นสำคัญในการติดตามอุปทานผลิตภัณฑ์และความก้าวหน้าด้านเทคโนโลยีการผลิตขั้นสูงของอินเทล