Ações da Intel ultrapassam US$ 100 no pré-market com entrada do High-NA EUV em produção em massa, e Trump volta a postar gráfico da INTC

TradingKey — Até o momento desta publicação em 8 de setembro (ET), a Intel (INTC) subia 4,72% no pré-market, para US$ 100,32. Na sessão anterior, a ação fechou em alta de 4,51%, a US$ 95,80.

[Fonte: TradingView]

O volume de vendas de CPUs para servidores da Intel no segundo trimestre cresceu 9% na comparação anual, enquanto o preço médio de venda saltou 48% na mesma base de comparação. A empresa afirmou que a demanda por CPUs para servidores atualmente supera a capacidade de oferta e espera que o setor de CPUs para servidores alcance um forte crescimento de dois dígitos em unidades em 2026 e 2027, com o ritmo se estendendo até 2028.

High-NA EUV Entra em Aplicações de Produção em Massa

Em 8 de setembro, a Intel e a ASML (ASML) anunciaram os progressos mais recentes na fabricação em alta escala com High-NA EUV. Ambas as empresas declararam que o High-NA EUV é usado atualmente na fabricação em alta escala da Intel.

[Fonte: Intel]

A Intel é uma das primeiras fabricantes de chips a adotar o High-NA EUV. Em 2024, a Intel e a ASML concluíram a integração do primeiro sistema de litografia High-NA EUV comercial do setor em sua unidade de P&D no Oregon. Desde então, a Intel continuou a avançar na qualificação de equipamentos, testes e P&D de processos, incorporando o High-NA EUV à fabricação real de produtos.

A Intel declarou que, até o momento, o High-NA EUV processou um total cumulativo de mais de 1 milhão de wafers, incluindo a qualificação inicial de equipamentos e testes, P&D e a fabricação em alta escala de camadas específicas para determinados processadores Core Ultra Series 3 (codinome Panther Lake).

Atualmente, o High-NA EUV está sendo utilizado na fabricação em alta escala para camadas específicas do processo Intel 18A em determinados processadores Panther Lake. A Intel afirmou que as camadas relevantes do 18A fabricadas com High-NA EUV alcançaram um desempenho equivalente ou superior ao de camadas comparáveis produzidas pela plataforma EUV NXE de 0,33 NA. A Intel também destacou que a precisão de sobreposição, o rendimento e a disponibilidade do equipamento High-NA atual atendem às expectativas da empresa.

O High-NA EUV aumenta a abertura numérica de 0,33 nas plataformas EUV existentes para 0,55, permitindo maior resolução litográfica. A ASML afirmou que a plataforma EXE High-NA pode reduzir determinadas etapas de processo na fabricação em alta escala de chips avançados, diminuindo assim defeitos, custos e tempos de ciclo.

O CEO da ASML, Christophe Fouquet, declarou que a Intel é uma das principais empresas a impulsionar a adoção da tecnologia High-NA pelo setor. Desde a instalação do primeiro sistema EXE comercial em 2024 até a conclusão da qualificação da geração mais recente de equipamentos e o envio do primeiro produto lógico em alta escala fabricado com High-NA, a Intel assumiu a liderança na aplicação do High-NA EUV na fabricação em alta escala de chips lógicos.

Trump publica outra imagem de IA relacionada à Intel

O presidente dos EUA, Trump, publicou uma imagem gerada por IA na Truth Social em 6 de setembro, na qual uma tela de negociação exibia "COMPRADO: INTEL US$ 20" e "AGORA US$ 95".

Trump também afirmou ter gerado "centenas de bilhões de dólares" para os Estados Unidos por meio de participações em ações e outros tipos de ativos, em vez de para ganho pessoal, mas não forneceu uma base específica para respaldar esse número.

[Fonte: Truth Social]

Atualmente, a demanda por CPUs de servidores da Intel permanece superior à oferta disponível; enquanto isso, a tecnologia High-NA EUV já foi utilizada na produção em massa de camadas específicas do processo Intel 18A para processadores selecionados da linha Core Ultra Series 3 (codinome Panther Lake).

Daqui em diante, saber se a oferta de CPUs para servidores vai melhorar e se o 18A e o High-NA EUV terão uma adoção ainda mais ampla serão pontos-chave para acompanhar o fornecimento de produtos e o avanço da Intel em manufatura avançada.