消息稱三星電子加速1.4nm先進製程研發 深化與應材、泛林合作

金色財經報道，6月30日，韓媒the bell當地時間26日稱，三星電子正重新加速1.4nm(SF1.4)工藝節點的研發工作。該先進製程一度計劃2027年量產，但由於晶圓代工業務重心調整，量產時間推遲至2029年。報道指出，三星電子近期嚮應用材料、泛林研究等主要半導體設備企業分享了SF1.4工藝方案，希望實現上下游協力，加速打造最適合該節點的設備組合，包括標準設備的定製化版本。三星電子已從ASML引進了High NA EUV光刻圖案化設備，這一機臺部署在NRD-K半導體研發綜合體中。對於三星電子而言，High NA EUV光刻機預計最早在 SF1.4節點用於生產。