一國企已開始量產自主研發的DUV光刻機制造設備,長鑫存儲或成爲首批客戶之一

來源 Jinse_news
金色財經報道,7月27日,據 The Information 援引知情人士消息,位於上海的某國資背景企業已開始量產自主研發的 DUV(深紫外)光刻機制造設備,這是中國半導體產業推進國產化替代的重要進展。 據悉,該企業計劃於 2026 年生產約 5 臺 DUV 光刻機,並在 2027 年擴大至約 20 臺。雖然與荷蘭光刻機巨頭 ASML 的產能仍存在差距(ASML 去年交付 131 套浸沒式 DUV 光刻系統),但國產 DUV 設備突破量產意味着中國芯片製造供應鏈進一步向自主可控邁進。 消息人士稱,這批國產 DUV 光刻機計劃交付給中國主要芯片製造商,包括中芯國際、華虹半導體以及存儲芯片廠商長鑫存儲。 其中,長鑫存儲作爲中國 DRAM 產業代表企業,預計將成爲國產先進半導體制造設備的重要應用方。若國產 DUV 設備能夠在長鑫存儲等廠商產線中實現穩定運行,將進一步降低中國存儲芯片產業對海外關鍵設備的依賴。 截至發文,御渡半導體、中芯國際、華虹和長鑫行儲均未回應置評。
免責聲明:僅供參考。 過去的表現並不預示未來的結果。
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