SemiAnalysis:在沒有EUV光刻機情況下 華爲海思麒麟9030芯片超過英特爾最先進EUV工藝

來源 Jinse_news
金色財經報道,7月21日,知名半導體和AI研究分析公司發文表示,其拆解華爲最新旗艦手機芯片海思麒麟9030,在電子顯微鏡下測量了麒麟9030芯片內部最小的導線間距——金屬間距,結果發現麒麟9030內部最小的金屬間距僅爲32.5納米。這比基於英特爾最新18A工藝的Panther Lake芯片的金屬間距還要小。中芯國際在沒有最先進設備,也沒有EUV光刻技術的情況下,竟然能將導線間距縮小到比英特爾最先進的EUV工藝還要小10%左右。
免責聲明:僅供參考。 過去的表現並不預示未來的結果。
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